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MOCVD加熱器

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  MOCVD是一種利用有機金屬分解反應進行氣相外延生長薄膜的化學氣相沉積技術。為了生長出多組分、大面積、薄層和超薄層化合物半導體材料, MOCVD設備除了要考慮系統密封性、流量、組分變換迅速等,最重要的是反應腔的溫度控制。MOCVD腔體溫度控制精度需達到0.2℃或更高,高的溫度均勻性也是產品良率的重要保證。

MOCVD加熱器(圖1)

  材料介紹

  因為鎢、鉬、錸等難熔金屬材料具有耐高溫、低污染、優異的耐蠕變性能、較高的尺寸穩定性、膨脹系數低、可焊接性能等優勢,所以被廣泛用做MOCVD加熱器的加熱絲、隔熱屏、導電板等零部件。

  錸加熱絲

  - 錸板,錸片,錸棒

  - 鎢棒、鎢板、鎢箔、鎢絲

  - 其他定制鎢制品

MOCVD加熱器(圖2)

  產品規格

  我公司MOCVD項目的技術研發實力雄厚,可以提供整套加熱器設計方案、產品,同時還可以為客戶提供MOCVD設備加熱片的更換、升級以及修復等服務。

  V系列:K465(i)、EPIK700、E475、K475、Maxbright 系列MOCVD加熱器的修復、升級、更換。

  A系列:CRIUS,CRIUS II, CRIUS II-L 系列MOCVD加熱器的修復、升級、更換。  我公司還擁有自主開發MOCVD加熱器的技術和經驗,可根據客戶需求提供整套技術及產品解決方案。

  公司優勢

  專業研發、銷售鎢、鉬及其合金產品精深加工等難熔材料研究、制造和服務的 業務單元。

  一直致力于鎢鉬材料和高端制品解決方案提供者,從事鎢、鉬及其合金的板、棒、片、箔、桿及深加工產品。

  熱沉·鎢鉬科技以更高的質量標準,更短的交貨期限,更優的產品服務,期待與您共創雙贏。


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